Benfield工艺气体洗涤器
在气体流的净化过程中,重点是避免洗涤液的过量或不足,以防止气体净化不充分以及材料过度使用和相关成本的增加。通过直接在过程中进行连续测量,确保最佳的浓度管理。
在Benfield工艺中,使用热碳酸钾溶液(K2一氧化碳3) 作为吸收剂。待净化的气体在高压(例如2 MPa)下逆流通过K2一氧化碳3 溶液在吸收器中流动。它与CO2 反应并部分转化为碳酸氢钾(KHCO3)。在吸收器的上端,净化后的气体排出。吸收过程中的温度通常在100°C到110°C之间。
通过蒸汽和压降解吸时,吸收的CO2 重新释放到洗涤液中。再生的K2一氧化碳3 随后被送入吸收循环。该 LiquiSonic® 控制器40 能够对洗涤液浓度的波动作出反应。当KHCO3浓度过高时,会形成泡沫并降低CO2 吸收性能。当K2一氧化碳3 不足时,无法保证足够的吸收。
这些 LiquiSonic® 浸入式传感器 可以轻松直接安装在管道中。常见的安装位置是从吸收器到解吸器的管道(DN80)或其回流管道中。坚固的传感器结构和特殊材料的选择(如HC2000)确保了系统的长时间运行。
该 LiquiSonic® 控制器40 与 LiquiSonic® 传感器 以及第二个物理量的测量单元相连。控制器在主菜单中显示K2一氧化碳3 洗涤液和KHCO3 盐的浓度。
典型测量范围:KHCO的浓度范围3: 0 到 25 m%K的浓度范围2一氧化碳3: 0 到 25 m%温度范围: 80 到 110 °C
LiquiSonic®确保在三组分液体中进行精确的浓度测量,并提供永久的数据记录。因此,实现了K的自动控制2一氧化碳3 - 在气体洗涤器的最大吸收或最大效率范围内的解决方案。
LiquiSonic®减少耗时的实验室测量:
通过避免过量和不足的剂量,可以节省吸收器(K2一氧化碳3) 和解吸器(蒸汽)的材料成本。
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在许多工业设施中,会产生污染气体,例如在氨合成或环氧乙烷装置中。出于质量原因,必须净化富含CO2的气体。化学工业中一种著名的方法是Benfield合成气洗涤器,其中气流中的酸性成分(例如CO2)通过洗涤液被吸收。
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