가스 흐름을 세척할 때, 한편으로는 부적절한 가스 세척을 방지하고 다른 한편으로는 재료의 과도한 사용 및 관련 비용을 방지하기 위해 세척액의 과소 투여 또는 과다 투여를 방지하는 데 중점을 둡니다. 공정에서 직접 지속적인 측정을 통해 최적의 농도 관리가 보장됩니다.
LiquiSonic® Controller 40을 사용한 음속 측정
애플리케이션
벤필드 공정에서는 뜨거운 탄산칼륨 용액(K2콜로라도3) 흡수제로 사용됩니다. 정화할 가스는 역류 방식으로 고압(예: 2 MPa)으로 K를 통과합니다.2콜로라도3 용액이 흡수체로 전달됩니다. 이는 CO와 함께 축적됩니다.2 부분적으로 반응하여 탄산수소칼륨(KHCO)을 형성합니다.3). 정화된 가스는 흡수체 상단에서 나옵니다. 흡수 과정 중 온도는 일반적으로 100°C~110°C입니다.
증기 및 압력 손실을 이용하여 탈착할 때 CO가 흡수됨2 세척액으로 다시 방출됩니다. 재생성된 K2콜로라도3 그런 다음 흡수 회로에 공급됩니다.
그만큼 리퀴소닉® 컨트롤러 40 세척액 농도의 변동에 반응할 수 있습니다. KHCO가 너무 높은 경우3농축, 거품 형성 및 CO 감소가 발생합니다.2 -흡수 행동. K가 너무 적으면2콜로라도3 충분한 흡수가 보장되지 않습니다.
설치
그만큼 리퀴소닉® 다이빙 센서 파이프라인에 직접 쉽게 설치할 수 있습니다. 일반적인 설치 지점은 흡수기에서 탈착기까지 또는 그 반환 부분에 있는 파이프(DN80)입니다. 견고한 센서 구조와 HC2000과 같은 특수 소재의 선택으로 시스템의 긴 프로세스 수명이 보장됩니다.
그만큼 리퀴소닉® 컨트롤러 40 그거랑 같이 있어 리퀴소닉® 감지기 및 제2 물리량을 측정하는 유닛을 포함한다. 컨트롤러는 메인 메뉴에 K의 농도를 표시합니다.2콜로라도3 - 세척액과 KHCO3 - 소금.
일반적인 측정 범위:
KHCO의 농도 범위3: 0~25m%
K의 농도 범위2콜로라도3: 0~25m%
온도 범위: 80~110°C
고객 혜택
리퀴소닉®영구 데이터 기록을 통해 3성분 액체의 정확한 농도 측정을 보장합니다. 이는 K의 자동 조절을 보장합니다.2콜로라도3 - 가스스크러버의 최대 흡수 또는 최대 효율 영역의 솔루션이 가능합니다.
리퀴소닉®시간이 많이 소요되는 실험실 측정을 줄입니다.
- 소요시간 : 하루 1시간
과잉 및 과소 투여를 방지함으로써 흡수제의 재료비가 절약됩니다(K2콜로라도3) 및 탈착기(증기).
오염된 가스는 암모니아 합성이나 산화에틸렌 공장 등 많은 산업 공장에서 생산됩니다. 품질상의 이유로 CO2가 풍부한 가스는 청소되어야 합니다. 화학 산업에 알려진 공정은 Benfield 합성 가스 세정기인데, 여기서 가스 흐름의 산성 성분(예: CO2)이 세정 용액을 사용하여 흡수됩니다.