硫酸、塩化ナトリウム、水酸化ナトリウムのモニタリング
リキソニック® プロセス流体の濃度と密度を迅速、確実、かつ非常に正確に監視します。プラグアンドプレイ システムは、取り扱いが簡単でメンテナンスが不要であることが印象的です。
- サンプリングは必要ありません
- 信頼性の高いインライン値を 24 時間年中無休でリアルタイムに取得
- プロセス逸脱に対する迅速な対応
- 文書化のための詳細なプロセスデータ
- 多数のプロセスインターフェース
- プロセス液体の自動投与と調整が可能
塩素アルカリ法
ブライン処理
電気分解用の投入材料の準備中に監視されます リキソニック® 処理前後の NaCl の品質または飽和度を確実に測定します。このようにして、このプロセスステップの効率について追加の結論を引き出すことができます。
塩化ナトリウム飽和度を最大にし、エネルギーコストを節約
- 確実な入荷検査
- 電解膜の長寿命化
- 塩水の純度に関する正確な知識
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NaCl 飽和を最大限に確保することでエネルギーコストを節約
NaOH と NaCl の分離
電気分解後、陰極液は蒸発器に入り、そこで NaOH と NaCl が分離されます。分離された水酸化ナトリウムの品質を監視することに加えて、NaOH/NaCl 混合物もリアルタイムで監視できます。両方の濃度を同時にコントローラーに確実に示します。
最適化された分離プロセスのためのインプットとアウトプットの高精度モニタリング
- 苛性ソーダ/塩化ナトリウム混合物の監視
- 最大±0.1m%の精度
- NaOH製品の品質を確保する
- 蒸発器効率の監視
塩素ガスの乾燥
電気分解の生成物である塩素ガスは乾燥されます。硫酸を添加することによりガスから水が除去され、さらなる処理に備えることができます。の リキソニック®-システム 供給される硫酸（H）の品質（濃度・密度）を監視します。2それで4）。
最適な乾燥結果を実現する完璧な硫酸濃度
- 精度: 最大 0.03m%
- 自動再投与が可能
- 耐食材料（ハステロイC2000、PFAなど）
- サンプリングは必要ありません
塩素ガス乾燥
- H2それで4-最大±0.03m%の精度
- Hの継続的なリアルタイム監視2それで4-集中
- サンプリングや臨床検査は行われません
- 望ましいClを確保する2- 腐食を避けるために乾燥させてください。
隔膜プロセスによる分離
- これ以上のサンプリングは必要ありません
- 真の24時間365日のプロセス制御
- NaOH/NaCl 混合物の濃度を継続的に監視
- 蒸発時のエネルギーコストの削減
- 顧客固有の製品NaOH濃度の正確な設定
分離工程
- 苛性ソーダ/塩化ナトリウム混合物の連続濃度監視
- 蒸発時のエネルギーコストの削減
- 顧客固有の製品NaOH濃度の正確な設定
- 蒸発器内の完全な蒸気制御を含む、蒸発後の NaOH および NaCl 濃度の継続的な監視による制御とトラブルシューティング
